
不能直接用;AII 電化學氧分析儀(如 GPR-1200/2800)在你描述的熱解煙氣工況下,會被快速腐蝕、中毒、堵塞,讀數嚴重失真。下面從原理、干擾、可行方案三方面說明:
傳感器為堿性電解液,HF/HCl 會中和電解液、腐蝕電極 / 透氣膜,導致漂移、讀數虛高、傳感器壽命從 2–3 個月縮短到幾天~幾周。
AII 的 XLT 傳感器僅抗高 CO?,不耐 HF/HCl。
CO/H?在電極上氧化,額外產生電流,氧讀數虛高(可達真實值的數倍),不可信。
CH?雖干擾較小,但高濃度下仍會影響擴散與基線。
粉塵堵塞PTFE 透氣膜,焦油黏附表面,阻礙 O?擴散,讀數偏低、響應變慢、最終無信號。
焦油還會溶脹 / 破壞膜結構,造成不可逆損壞。
? 適用:潔凈、干燥、無酸性 / 還原性氣體的惰性氣體、天然氣、高 CO?(XLT)中的 O?。
? 禁用:含 HF/HCl、高濃度 CO/H?、粉塵、焦油、水汽冷凝的煙氣 / 工藝氣。
預處理(必須):
高溫過濾(200–250℃):除粉塵、焦油(防冷凝)。
酸洗 / 堿洗塔:脫除 HF/HCl。
冷凝器 + 除霧器:除水汽。
催化轉化器:將 CO/H?氧化為 CO?/H?O,消除還原干擾。
分析儀:AII(僅預處理后)、氧化鋯(抗還原差,慎用) 激光氧(優先,抗干擾強)。
原理:可調諧半導體激光吸收光譜,不受 HF/HCl/CO/H?/CH?交叉干擾。
抗污染:光學窗口可定期擦拭,耐粉塵 / 焦油(需氣幕保護)。
應用:焦化、熱解、垃圾焚燒等高腐蝕 + 高粉塵 + 高還原煙氣 O?測量。
直接用 AII:不可行 → 傳感器快速損壞、數據失真、維護成本高。
預處理后用 AII:勉強可行 → 預處理系統復雜、投資 / 維護高、仍有腐蝕風險。
推薦:激光氧分析儀 → 抗干擾強、耐腐耐污、長期穩定、維護量低。